산업통상자원부가 글로벌 소재기업 듀폰의 반도체 극자외선(EUV) 공정용 포토레지스트(감광액) 생산시설을 한국에 유치했다.

포토레지스트는 일본 정부가 2019년 7월 한국 수출규제 대상에 올린 3개 품목 가운데 하나다.
 

9일 산업부에 따르면 성윤모 산업부 장관은 미국 실리콘밸리에서 존 켐프 듀폰 사장과 만나 한국에 극자외선 공정용 포토레지스트 생산시설을 구축하기로 확정했다.

듀폰은 이미 생산공장을 두고 있는 충남 천안에 시설을 짓는다. 2800만 달러를 투자해 2021년까지 완공할 것으로 알려졌다.

이번 투자로 삼성전자와 SK하이닉스 등 한국 기업들은 그동안 일본에 대부분을 의지해 왔던 포토레지스트 공급선을 다변화할 수 있을 것으로 보인다.

듀폰은 주요 포토레지스트시장인 한국을 공략할 여건을 마련하게 됐다.

포토레지스트는 반도체 회로를 그리는 노광 공정에서 실리콘 웨이퍼에 도포하는 용액을 말한다. 불화아르곤레이저, 극자외선 등 노광 공정에 사용되는 빛의 종류에 따라 각각 다른 포토레지스트를 써야 한다.

극자외선 공정은 반도체 미세공정을 심화하는 데 필수라는 점에서 극자외선 공정용 포토레지스트를 확보하는 일은 반도체산업 발전에 큰 비중을 차지한다고 볼 수 있다.

성윤모 장관은 "최근 일본 정부가 극자외선용 포토레지스트에 대한 특정포괄허가를 허용하는 등 일본 수출규제조치를 해결하는 데 일부 진전이 있었지만 근본적 해결방안으로 보기는 어렵다"며 "정부는 핵심 소재·부품·장비에 관한 기술 경쟁력 확보와 공급선 다변화를 계속해서 추진할 것"이라고 말했다. [비즈니스포스트 임한솔 기자]