삼성전자가 반도체 위탁생산(파운드리)에 쓰이는 5나노 미세공정 기술 개발에 성공했다.
삼성전자는 EUV(극자외선) 기술 기반의 5나노 반도체 공정을 개발하며 시스템반도체사업에서 기술 주도권을 강화했다고 16일 밝혔다.
| ▲ 삼성전자 화성사업장에 건설중인 EUV전용 반도체공장. |
지난해 10월 7나노 EUV공정 개발과 양산에 성공한 뒤 약 반년만에 이뤄낸 성과다.
5나노 미세공정을 적용한 반도체는 7나노 기반의 반도체와 비교해 면적은 25%, 전력 소모는 20% 줄일 수 있고 성능은 10% 높일 수 있다.
삼성전자는 7나노 공정을 적용한 반도체 출하를 4월 중으로 앞두고 있으며 올해 안에 차기 공정인 6나노 제품의 양산도 시작한다는 계획을 세우고 있다.
삼성전자 관계자는 "6나노 반도체 제품은 이미 설계가 완료됐다"며 "현재 대형 고객사와 생산 협의를 진행하고 있는 단계"라고 말했다.
7나노 이하 반도체 미세공정에 적용되는 EUV는 반도체 회로를 빛으로 그리는 노광공정에 사용되는 신기술로 기존 미세공정의 한계를 극복할 수 있다.
삼성전자는 7나노 공정부터 업계 최초로 반도체 위탁생산에 EUV공정을 적용했다.
삼성전자 관계자는 "미세공정 기술을 통해 반도체 위탁생산시장에서 기술 주도권을 높이며 4차산업혁명을 이끌 반도체사업 경쟁력을 강화하겠다"고 말했다.
삼성전자는 현재 화성 반도체공장에서 EUV 기반 반도체를 생산하고 있다. 2020년 가동이 예상된 화성 EUV라인 전용 반도체공장도 현재 건설이 진행되고 있다. [비즈니스포스트 김용원 기자]
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