[비즈니스포스트] 대만 TSMC가 일본에 신설하는 파운드리공장에서 6나노 첨단 미세공정 반도체를 생산하겠다는 계획을 세우고 있다. 소니 등 현지 고객사에 공급을 위한 목적이다.

13일 일본 닛케이아시아 보도에 따르면 TSMC는 구마모토 제2공장에 6나노 및 12나노 미세공정 기술을 도입하는 방안을 추진하고 있다.

현재 건설중인 제1공장은 12~28나노 사이의 구형 공정이 주로 도입되는데 두 번째 파운드리 생산설비에는 첨단 미세공정 기술도 활용하게 되는 것이다.

TSMC가 일본 공장에서 제조하는 반도체는 주로 소니를 비롯한 현지 고객사에 공급된다.

그동안 TSMC는 대만 이외 국가에 7나노 이하 미세공정 반도체 생산설비를 구축하는 데 소극적 태도를 보여 왔다.

투자에 들이는 비용 대비 성과가 불투명한 데다 대만 정부 및 정치권에서 TSMC의 해외 공장 투자에 부정적 시각을 보이고 있었기 때문이다.

그럼에도 TSMC가 일본 제1공장 건설을 진행하는 동시에 제2공장에 첨단 공정기술 도입까지 확정한 것은 일본 정부의 적극적인 지원에 따른 결과로 분석된다.

TSMC가 구마모토 제2공장에 들이는 총 투자금액은 2조 엔(약 18조 원)에 이른다. 제1공장 투자금액인 1조2천억 엔과 비교해 큰 규모다.

닛케이아시아에 따르면 일본 정부는 이 가운데 최대 9천억 엔(약 8조 원)을 지원하는 방안을 추진하고 있다. 절반 가까운 투자 금액을 일본 정부에서 책임지는 셈이다.

현재 일본에서 가장 앞선 기술을 활용하는 시스템반도체 생산공장은 40나노급 미세공정을 활용하는 데 그친다.

TSMC가 이보다 훨씬 발전한 공정을 기반으로 반도체를 생산해 공급하며 일본의 반도체 자급체제 구축에 힘을 실어주는 셈이다.

현재 TSMC는 미국 애리조나에도 4나노 미세공정 반도체 생산을 목표로 대규모 반도체공장 건설을 진행하고 있다.

최근 투자 계획이 확정된 TSMC의 독일 파운드리 공장에도 첨단 미세공정 기술 도입 가능성이 거론되고 있다.

TSMC가 그동안 대만에만 운영하던 첨단 미세공정 반도체 생산공장을 여러 국가로 분산하면서 지정학적 리스크에 대응하는 데 속도를 내고 있다는 분석이 나온다.

지난해 건설이 시작된 TSMC 일본 구마모토 제1공장은 내년부터, 제2공장은 2027년부터 가동이 예정되어 있다. 김용원 기자