▲ 삼성전자는 5월 평택사업장 2공장(P2)에서 낸드플래시 생산을 위한 클린룸(청정실) 공사에 착수했다고 1일 밝혔다. 사진은 평택사업장 2공장 전경. <삼성전자> |
삼성전자가 평택 사업장 2공장(P2)에 낸드플래시 생산라인을 구축한다.
삼성전자는 5월 평택 사업장 2공장에서 낸드플래시 생산을 위한 클린룸(청정실) 공사에 착수했다고 1일 밝혔다.
이번 투자로 증설된 라인에서는 삼성전자의 최신 수직 적층 낸드플래시(V낸드)가 양산된다. 양산시기는 2021년 하반기로 알려졌다.
삼성전자는 인공지능(AI), 사물인터넷(IoT), 5G통신 등이 보급되면서 중장기 낸드플래시 수요가 확대되는 것에 대응하기 위해 투자를 결정했다고 설명했다.
최근에는 코로나19를 계기로 비대면(언택트)시장이 성장하는 만큼 적극적으로 투자해 미래 사업기회를 선점한다는 방침을 세웠다.
최철 삼성전자 메모리사업부 전략마케팅실 부사장은 "이번 투자는 불확실한 환경 속에서도 메모리 초격차를 더욱 확대하기 위한 노력"이라며 "최고의 제품으로 고객 수요에 차질 없이 대응함으로써 국가경제와 글로벌 IT산업 성장에 기여할 것"이라고 말했다.
삼성전자는 국내에서는 화성과 평택, 해외에서는 중국 시안에 낸드플래시 생산라인을 운영하고 있다. [비즈니스포스트 임한솔 기자]