[비즈니스포스트] 삼성전자와 SK하이닉스가 미국의 중국 반도체 산업 제재에 대응해 중장기적으로 차세대 반도체의 국내 생산 비중을 늘릴 것이라는 신용평가업체 전망이 나왔다.

나이스신용평가는 13일 반도체 산업보고서를 내면서 “삼성전자와 SK하이닉스는 미국의 중국 반도체 산업제재에 따라 중국에 위치한 반도체 공장을 경쟁력 약화시점까지 최대한 활용한 뒤 국내 공장의 생산용량을 늘려 연착륙하는 방안을 모색할 수 있다”고 내다봤다.
 

삼성전자는 중국 시안에 낸드플래시 공장을 두고 있고 SK하이닉스는 우시에 D램 생산공장과 다롄에 낸드플래시 생산공장(솔리다임)을 보유하고 있다.

나이스신용평가에 따르면 삼성전자는 낸드플래시의 37%를 중국 시안에서 생산하고, SK하이닉스는 D램의 40%를 우시 공장에서 만들며 낸드플래시의 20%를 다롄에서 제조하는 것으로 파악된다.

미국의 대중국 반도체 제재 정책에 따라 첨단 생산장비의 중국 반입이 불가능해질 가능성이 높아지면서 삼성전자와 SK하이닉스의 중국공장의 구형화가 불가피한 것으로 분석된다.

특히 핵심장비인 노광기를 생산하는 네덜란드와 일본도 미국의 대중 반도체 규제에 적극적으로 동참하기로 하면서 삼성전자와 SK하이닉스의 중국 공장에 대한 우려는 높아지고 있다.

나이스신용평가는 “현재 미국이 중국 내 첨단 반도체 장비 반입에 대해 2023년 10월 까지 포괄유예기간을 두고 있지만 이에 대한 추가 연장여부는 불확실하다”고 짚었다.

그러면서 “미국의 중국 내 첨단 반도체 장비 반입 유예기간이 연장되지 않더라도 삼성전자와 SK하이닉스는 단기적으로 국내 공장에서 일부 공정을 뒷받침하거나 국내 공장의 생산라인 재조정을 통해 차세대 반도체 칩의 생산능력이 저하되는 것을 막을 것으로 보인다”고 말했다.

나이스신용평가는 “삼성전자와 SK하이닉스는 중장기적으로 차세대 반도체 칩의 국내생산 비중을 확장하는 것에 집중하고 중국 공장의 용도전환을 꾀할 것으로 보인다”며 “중국 공장의 부가가치를 최대한 창출하는 방향으로 대응할 것으로 예상된다”고 덧붙였다.

다만 SK하이닉스 중국 다롄 공장의 경우 핵심기술이 국내 공정과 달라 단기적으로 한국 공장으로 이를 뒷받침하기 어려울 수 있다는 분석도 내놨다.

구체적으로 SK하이닉스의 다롄공장은 플로팅 게이트 기술(FG)을, 한국공장은 차지트랩플래시(CTF) 기술을 적용해 낸드플래시를 생산해 기술적 기반이 달라 보충해서 생산하는 일이 어렵다는 특징이 있다.

나이스신용평가는 “삼성전자와 SK하이닉스는 미국의 반도체 정책 시행 과정에서 더 이상 규제의 예외를 적용받기 어려워 질 가능성이 높아 부정적 영향을 최소화할 수 있는 대응전략을 수립하는 것이 매우 중요하다”고 말했다. 조장우 기자