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SK하이닉스 사장 곽노정 "인재 양성을 위해 업계 전체가 매진해야"

나병현 기자 naforce@businesspost.co.kr 2022-10-05 17:24:16
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[비즈니스포스트] 곽노정 SK하이닉스 대표이사 사장이 메모리반도체 산업에서 인재가 가장 중요하다고 강조했다.

곽 사장은 5일 서울 코엑스에서 개막한 제24회 반도체대전(SEDEX 2022) 기조연설에서 “현재 공급망 문제뿐 아니라 지정학 이슈, 환경 문제, 컴퓨팅 환경 변화 등의 극복을 위해 협력, ESG(환경, 사회, 지배구조)와 인재가 중요하다”고 말했다.
 
SK하이닉스 사장 <a href='https://www.businesspost.co.kr/BP?command=article_view&num=408836' class='human_link' style='text-decoration:underline' target='_blank'>곽노정</a> "인재 양성을 위해 업계 전체가 매진해야"
곽노정 SK하이닉스 대표이사 사장(사진)이 5일 반도체대전에서 변화 극복을 위해 인재가 중요하다고 강조했다.

곽 사장은 한국반도체산업협회장을 맡고 있다.

곽 사장은 “메모리반도체는 장비, 기술, 자본, 지식의 싸움인데 결국 이 모든 걸 아우르는 건 사람”이라며 “이제는 정말 어느 한쪽의 책임이 아니라 업계 전체가 인재 양성을 위해 매진해야 할 시기”라고 말했다.

곽 사장은 이날 ‘메모리 기술의 한계를 넘어서’라는 주제로 발표도 진행했다.

그는 D램 미세화 고정에서 10나노를 뛰어넘는 것이 매우 어려울 것이라고 전망했다.

곽 사장은 “D램 제조사들이 1a(10나노급 4세대)에서 1b, 1c, 1d까지 갈 수 있을 것인가에 대한 의구심을 가지고 있다”며 “1d까지 가면 또 다른 벽이 있을 것”이라고 예상했다.

그러면서 “D램에도 극자외선(EUV) 공정이 들어와 있지만 이것만으로는 어렵다. 하이-NA 극자외선(EUV)'이 필요하다”며 “D램 미세화를 위해서는 새로운 소재가 나와줘야 한다”고 말했다.

낸드플래시 기술 발전과 관련해서는 셀의 절대적 높이를 낮추는 노력이 필요하다고 강조했다.

곽 사장은 “2D 낸드가 3D로 바뀌면서 2D에서 오는 문제점을 극복했지만 과연 400단까지 갈 수 있느냐에 대한 고민이 있다”며 “셀의 절대적 높이를 낮추려고 노력해야 하지만 두께를 너무 낮추면 물리적으로 남아있는 빈 공간에 충분한 공간이 안 나와 셀 특성을 나쁘게 하는 원인이 될 수 있다”고 설명했다.

그는 “낸드 안에 있는 여러 패턴을 걷어내고 이 공간을 가급적 셀로 채워넣어야 한다는 고민도 있다”며 “옆으로는 줄이고 높이는 낮추려는 새로운 노력이 필요하지만 쉽지 않다”고 덧붙였다. 나병현 기자

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